崇文讲堂第一百四十一期 

《光与物质相互作用之——脉冲激光沉积技术原理与应用》

讲座时间：7月2日12:00

讲座地点：C5-Ⅰ-506

 主讲嘉宾：赵嵩卿

主讲嘉宾简介

赵嵩卿，男，汉族，1970年7月生，博士，教授，硕士生导师。近年来一直从事项氧化物低维结构的制备与光电特性研究。作为负责人结题国家自然科学基金面上项目1项，新疆维吾尔自治区自然科学基金1项。主持在研新疆维吾尔自治区自然科学基金1项。研究成果发表SCI 收录学术论文50多篇，申请相关的国家发明专利20多项。

内容简介

脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition, PLD）是一种利用高功率脉冲激光来制备低维材料的物理气相沉积技术。在基础物理研究、光电子器件、能源材料、微电子与传感器、生物材料、超硬涂层领域有广泛应用。本讲座将从PLD的基本原理出发，系统介绍：

1.等离子体动力学：激光烧蚀、羽辉演化与成核生长机制。2.关键工艺调控：氧压、衬底温度、能量密度对薄膜质量的影响。3.原位实时监测：RHEED、光学发射光谱在原子层精度控制中的应用。4.前沿应用案例：二维材料（MoS₂/WS₂）及异质结的PLD生长等。